Moderne Messmethoden z. Oberflächenspannung /CMC?

Wissenschaft Physik
#1

Hallo,

welche Messverfahren sind denn heutzutage aktuell („state of the art“), um Oberflächenspannung und Kritische Mizellbildungskonzentrationen (CMC) von Tensidlösungen zu bestimmen?

Ich kenne aus dem Studium Verfahren wie Wilhelmi-Platte und Ring-Tensiometer, die auch heute noch in Form von modernen Geräten angeboten werden. Ist das immer noch Stand der Technik, oder gibt es bessere Verfahren (zB optische)?

Vielen Dank für Tipps oder auch einen (halbwegs verständlichen) Literaturhinweis,

quad.

#2

Hallo,

also vor 6 Jahren habe ich mit dem neuesten Gerät von Kruess gearbeitet und es war ein Tensiometer mit Platinplatte. Viel geändert hat sich also nicht.
Es gibt ein optisches Verfahren, allerdings nicht für cmc sondern für die Oberflächenspannung. Hier Wird ein Tropfen fotografiert (fast gefilmt so viele Bilder werden in kürzester Zeit gemacht). Anschließend kann man mit den Bildern eines Tropfens Tensidlösung, der z.B. auf Glas trifft, die Winkel, also die Größe oder besser den Durchmesser der „Flüssigkeitskugel“ berechnen - im Vergleich zu Wasser kommt man dann auf die Oberflächenspannung. Ich habe damit aber nicht lange genug gearbeitet um da mehr sagen zu können. Das Verfahren nannte sich Bestimmung des Kontaktwinkels.

Grüße

#3

Vielen Dank für die Infos!

quad